MOCVD金属有机化合物化学气相沉淀，是在气相外延生长的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。近年来，LED以其特性被广泛运用于各类照明领域。作为LED产品关键部件，采用金属有机气相沉积(MOCVD)生产外延片过程产生大量的生产废料。该废料中含有发光材料所必需的元素镓和铟对电子工业至关重要，镓和铟其独特的性能和有限的资源是其他材料及金属所无法替代的。日益增长的消费需求以及对镓和铟的大量需求的潜力，引发了全球竞争。随着LED行业的快速发展，绿色、清洁回收MOCVD生产废料备受关注。在我国，回收MOCVD生产废料中的有价金属对保障我国战略金属供给安全具有重大意义。MOCVD设备主要用于氮化镓基及砷化镓基半导体材料外延生长。目前中国是全球最大的MOCVD设备需求市场。2024年，我国MOCVD设备保有量3142台，出货量310台，市场规模28.06亿元；预计2025年，我国MOCVD设备保有量约3352台，出货量约315台，市场规模约28.35亿元。随着MOCVD设备在功率器件等诸多新兴领域的逐步应用，MOCVD设备市场规模将进一步扩大，前景广阔。

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　　关键词：MOCVD设备保有量、MOCVD设备出货量、MOCVD设备市场规模、MOCVD设备国产化率、MOCVD设备市场竞争格局、MOCVD设备行业发展前景、MOCVD设备行业发展趋势

　　MOCVD（Metal-organicChemicalVaporDeposition）金属有机化合物化学气相沉淀，是在气相外延生长（VPE）的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。MOCVD是以Ⅲ族、Ⅱ族元素的有机化合物和V、Ⅵ族元素的氢化物等作为晶体生长源材料，以热分解反应方式在衬底上进行气相外延，生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。通常MOCVD系统中的晶体生长都是在常压或低压（10-100Torr）下通H2的冷壁石英（不锈钢）反应室中进行，衬底温度为500-1200℃,用直流加热石墨基座（衬底基片在石墨基座上方），H2通过温度可控的液体源鼓泡携带金属有机物到生长区。

　　因为MOCVD生长使用的源是易燃、易爆、毒性很大的物质，并且要生长多组分、大面积、薄层和超薄层异质材料。因此在MOCVD系统的设计思想上，通常要考虑系统密封性，流量、温度控制要精确，组分变换要迅速，系统要紧凑等。不同厂家和研究者所产生或组装的MOCVD设备是不同的。一般由源供给系统、气体输运和流量控制系统、反应室及温度控制系统、尾气处理及安全防护报警系统、自动操作及电控系统。

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　　近年来，LED以其节能及环境友好等特性被广泛运用于各类照明领域。作为LED产品关键部件，采用金属有机气相沉积(MOCVD)生产外延片过程产生大量的生产废料。该废料中含有发光材料所必需的元素镓和铟，其中镓通常以GaAs、GaN和InGaN的形式存在于芯片中。镓和铟对电子工业至关重要，从工业应用中铟被归类为重要关键矿产资源，到供应链稀缺性的潜在角度镓和铟被归为战略金属。其独特的性能和有限的资源是其他材料及金属所无法替代的。日益增长的消费需求以及对镓和铟的大量需求的潜力，引发了全球竞争。随着LED行业的快速发展，绿色、清洁回收MOCVD生产废料备受关注。

　　MOCVD设备主要用于氮化镓基及砷化镓基半导体材料外延生长。据统计2024年全球MOCVD设备保有量为5150台，出货量为411台，市场规模为6.86亿美元；预计2025年，全球MOCVD设备保有量为5650台，出货量为442台，市场规模为7.09亿美元。

　　在我国，回收MOCVD生产废料中的有价金属对保障我国战略金属供给安全具有重大意义。我国LED产业开始于上世纪60年代末，经过30多年的积累，我国已经形成包括LED外延片的生产、LED芯片的制备、LED芯片的封装以及LED产品应用在内的较为完整的产业链。氮化镓基LEDMOCVD主要用于生产氮化镓基LED的外延片。目前氮化镓基MOCVD设备约占全部MOCVD市场份额的80%左右，此外，MOCVD设备还可以应用绿光LED、红光LED、深紫外LED，以及MiniLED、MicroLED、功率器件等诸多新兴领域，MOCVD设备的市场规模将进一步扩大，市场前景广阔。

　　目前中国是全球最大的MOCVD设备需求市场。据统计，2024年，我国MOCVD设备保有量约3142台，出货量约310台，市场规模约28.06亿元；预计2025年，我国MOCVD设备保有量将达3352台，出货量将达315台，市场规模将达28.35亿元。

　　相关报告：智研咨询发布的《中国MOCVD设备行业市场发展规模及投资机会分析报告》

　　LED产业链由衬底加工、LED外延片生产、芯片制造和器件封装组成。该产业链中主要涉及的设备包括：衬底加工需要的单晶炉、多线切割机；制造外延片需要的MOCVD设备；制造芯片需要的光刻、刻蚀、清洗、检测设备；封装需要的贴片机、固晶机、焊线台和灌胶机等。LED外延片的制备是LED芯片生产的重要步骤，与集成电路在多种核心设备间循环的制造工艺不同，主要通过MOCVD单种设备实现。因此，MOCVD设备是LED芯片生产和功率器件制造过程中的关键设备。

　　MOCVD设备主要用于制造化合物半导体材料，这些材料在功率半导体器件中有着广泛的应用。功率半导体器件，简称功率器件，又称电力电子器件，属于半导体产品中的分立器件。它是专门用于处理和控制大电流和高电压的电子元器件。功率半导体器件是半导体行业的重要组成部分，在现代电力电子技术中起着至关重要的作用。近年来，我国政府不断出台相关政策，推动半导体及相关产业的发展，功率半导体器件行业迎来良好的发展机遇。近年来，随着5G通信、新能源汽车、可再生能源、工业自动化等领域的快速发展，功率半导体器件市场需求不断增加，市场规模不断扩大。据统计，2024年，我国功率半导体器件市场规模约1070亿元，需求量约1800亿个，行业产值约435亿元；预计2025年，我国功率半导体器件市场规模约1200亿元，需求量约2000亿个，行业产值约510亿元。

　　MOCVD设备行业呈现高度垄断的竞争格局。长久以来MOCVD(金属有机物化学气相沉积)设备作为半导体照明产业链上游的关键制造设备，却一直被国外维易科、爱思强两家公司所垄断，产业的健康和良性发展受到严重制约。国外典型MOCVD设备厂商对比情况具体如下：

　　在2013年，中国MOCVD设备在国产化方面又向前迈进了一大步，在市场推广方面取得了阶段性的成果，包括中晟光电在内的若干家公司所研制的MOCVD设备先后得到了各自用户的认可和验证。

　　随着中国LED产能在全球的占比不断提高，并且在新兴产品领域布局速度也在不断加快。随着中国半导体照明市场规模迅速成长的情况下，作为行业上游关键制造设备的MOCVD，国产化MOCVD设备在市场推广方面取得了阶段性的成果。中微公司是中国半导体设备企业中极少数能与全球顶尖设备公司直接竞争并不断扩大市场占有率的公司，是国际半导体设备产业界公认的后起之秀。我国MOCVD设备行业主要竞争主体为中微公司、中晟光电等国内公司。

　　中微公司是我国半导体设备行业中的领先企业，主营产品等离子体刻蚀设备和薄膜设备作为光刻机之外的核心微观加工设备，其制程步骤复杂度与工艺开发难度均在业内处于突出地位。中微公司自2017年起已经成为氮化镓基LED市场份额最大的MOCVD设备供应商，在Micro-LED和高端显示领域的MOCVD设备开发及客户验证上取得了良好进展，并正在开发用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的相关设备。

　　2024年，中微公司用于蓝光照明的PRISMOA7、用于深紫外LED的PRISMOHiT3、用于Mini-LED显示的PRISMOUniMax等产品持续服务客户，持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位。其中PRISMOUniMax产品自2021年6月正式发布以来，凭借其高产量、高波长均匀性、高良率等优点，受到下游客户的广泛认可，在Mini-LED显示外延片生产设备领域处于国际领先。在2022年推出的用于氮化镓功率器件生产应用的MOCVD设备PRISMOPD5，目前已交付客户进行生产验证，并取得了重复订单。除此之外，中微公司正在开发新一代氮化镓功率器件应用的MOCVD设备，将进一步提升设备性能，降低客户生产成本，持续提升公司在氮化镓基MOCVD设备领域的竞争力，预计2025年将付运至客户进行验证。据企业公告数据显示，2024年，中微公司半导体设备营业收入90.65亿元，营业成本53.43亿元，毛利率41.06%。

　　中晟营业务为自主品牌的MOCVD设备的研发、生产和销售，以及相应的售后服务，包括设备安装调试、设备维修和后续升级等。当前业务聚焦化合物半导体生产中最为关键的金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备与技术的研发、生产和销售，目前已建立MOCVD设备与技术的核心体系，基于当下并且面向未来市场，推出多类产品，可分别应用于深紫外/化合物半导体材料生长与研究、GaN功率/射频器件、GaAs/InP分立器件、SiC功率器件的外延生产。公司具有丰富的半导体装备研发和产业化的成功经验，研发人员占比超过37%，形成了可持续创新的成员梯队及相关的研发和创新能力。

　　金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备LED、半导体激光器和大功率电子器件的关键技术。随着半导体照明产业的迅速发展，MOCVD外延片的产率和良率成为制约该行业发展的瓶颈。改进并研发高质量的多片式MOCVD反应器，对于半导体照明产业的发展至关重要。

　　LED技术仍在不断升级，MOCVD设备在LED芯片领域仍有增长空间。除此之外，MOCVD设备已经在光电子材料和器件等研究和生产中得到广泛应用，，因此MOCVD设备未来市场前景依然良好。

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　　《2025-2031年中国MOCVD设备行业市场发展规模及投资机会分析报告》共四章，包含MOCVD设备企业主要竞争对手分析，中国MOCVD市场需求分析，中国MOCVD行业发展前景等内容。

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