2024年10月15日至16日，备受瞩目的第八届国际先进光刻技术研讨会（is）在浙江嘉兴南湖宾馆隆重举行。众多半导体行业精英企业与专家学者齐聚一堂，共同探讨先展之路。睿晶半导体技术研发中心副总李德建受邀参与此次盛会，为半导体领域带

　　作为半导体行业的新锐力量，睿晶一X X {直专注于光罩技术创新和产品质量的突破。

　　在本次研讨会上，李总介绍了睿晶半导体公司的概况。睿 S e N晶凭借其经验丰富的专业研发团队、严苛的质量控制体系和高效的生产运营模式，在半导体行业中迅速崛起。$ O * z D V

　　睿晶专注于半导G P N S R N #体光掩模版制造的关键环节，持续投入大量资源进行技术攻关，致力于为客户提供N G X n i E R z高质量的半导体产品和解决方案。u x i , O . Q W z

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　　随后，李总对当前成熟节点掩模制造产业现状发表了自己的观点。李总表示，在半导体制造中，光掩模版是将电路设计图案转移至晶圆上的母版，故光掩模质量对晶圆工艺控制和x = R @ Y 9 P 6良率管理至关重要。随着集成电路制造业的快速发展，电路图案的临界尺寸（Cr0 q T Y b 6 1itical Dimension, CD）( o J r @ : 9 0随着摩尔定律而缩小，进而导致光B , y k c ( {掩s d M I E 8 g模上图案的复杂性和掩模误差增强因子（MaskErrorEnhancement Factor, MEEF)更高。因此，无缺陷的光掩模起着重要q N { N 7 1作用。近年来，随着国内半导体产业的蓬勃发展，晶圆厂对掩模的需求越来越旺盛，j _ F特别是对成熟节点，这就对掩模版质量和出d V V } %货效率提出了更高的要求。因此，如何实现高效、稳定的光掩模供应是产业界对Mask Shop的新要求。

　　本次报告Y Z z 2 H 9 3 i中，李总详细讲解了光掩模的制造流程。在传统缺陷处理流程p . D a n中，往往通过图形检验、修补以及AlMS（Aerial lmage Meas! ) 0 $ ` Luremen, V C V Y 3 [ %t system）模拟量测方式来实现光掩模的“零缺陷”。但对所有可疑缺陷进行AIMS量测成本高且耗时长，业界急需一@ U : a ( I 3 4 f种快速、准确和经济的方式，进而从检验结果中准确快速地模拟出晶圆上的曝光结果。LPR（Lithography_ 7 . ? l Q / mPrintability Rey s u 8 Q tview）是KLA开发的一种低成本、高精度的空间模拟成像产品。在LPR评估过程中，通过PDM（PC 1 d Xrogrammed Defect Mask)掩模图形和大量产品图形进行验证，LPR模拟结果与AIMS量测结果相匹配，CDE（C7 : _D Error）小于15%条件下，两者间的差异全部在2%以内，即LPR展现出了高的准确性和匹配度，可以成为AIMS系统的重要补充或backup方法。通过将LPR技术引入至? R = e 8 U C生产流程中，可以快速过滤缺陷，从而节省成本、提高生产效率。

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　　1. 李总的报告内容充实，专业性较强，与会者对此给予了广泛的关注并进行了热烈的讨论。

　　以上就是IWAPS2024丨睿晶半导体发表前沿光罩生e . i d I J产效能提升技术成果的详细内容！

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